四、草图绘制生产力
   
    在 2D 草图环境里的全新开发工具，将缩短新使用者的学习曲线，并藉由提供较为明确的约束状态回馈，以提升既有使用者的生产力。这项新的草图编辑工具将缩短修改草图所需要的时间，同时保留不受影响的约束。
   
    加强的草图约束
   
    草图约束提供了一种可撷取 2D 草图设计想法的强大方式。在Inventor 2008 里使用约束的方式已较为简单与方便了。多处的改善点可减少建构具正确约束的草图所需的工夫，其中包括找出并解决加诸过度约束的状况。
   
    显示约束工具
   
    此「显示约束」工具现在支持窗口选择功能，减少打开特定约束工具列所需的时间。当使用「显示约束」工具时，只要使用者指向某个项目，且在其它约束工具列显示时，反白显示所有关联的对照约束，则光标会显示属于该项目的约束数目。
   
    改良的约束工具列设计
   
    约束工具列已经重新设计过，更新的外观使其更明显易见。在3D 旋转的过程中，约束工具列现在会固定在草图平面上，而新的放置算法会藉由减少约束与其它相关几何图形之间的重迭，减少画面混乱的情形。
   
    改善的交叉亮显
   
    在设计工程师指向任何一件草图几何图形，所有相关的约束都会以醒目的黄色显示，让他们可以马上看到草图里的哪些零件是受到该项目的约束。或者，设计工程师可以指向约束列里的特定的约束，而其相关或交互的约束会以黄色亮光显示，让他们可以快速分辨哪些约束是与该约束相关联。
   
    显示剩余的约束
   
    当启用一个草图时，一项新的约束回馈区域会显示在Inventor 窗口底部。在此区域会持续提供完全加约束草图所需的约束数目的相关回馈，让设计工程师们可以快速知道他们要加进多少个约束才可完全约束其草图。
   
    约束可见性控制
   
    位于图形窗口里的关系型菜单上的全新「约束可见性」控制功能提供各个约束类型的复选框，让设计工程师可以个别控制各个约束类型的可见性。

    
    全新的参考约束功能
   
    当模型几何图形投射在草图平面时，会建立新的「参考」约束以显示该几何图形乃是参考几何图形。指向此项约束会同时提示草图几何图形与参考模型的几何图形。
   
    草图编辑工具
   
    Inventor 2008 扩充了既有的工具以修改草图的几何图形。这些工具可让使用者修改加有约束的几何图形，同时保留未受影响的约束与标注。
   
    改良的移动、复制与旋转工具
   
    既有的「移动」与「旋转」工具已经透过动态预览、约束与标注取代功能加以强化，且可直接存取「精确输入」工具。虽然「移动」工具仍然可以用来建立复本，我们仍导入了新的「复制」工具。